届时沪上市主要领导，以及相关部委、科研院所的领导都会来参加仪式。

仪式之后，东升半导体作为地主，得安排与会人员参观一些项目，哪些项目可以给人家看，哪些要保密，需要杨东升拿主意。

“服务器用双核芯片、手机芯片，这是我们这些年来的主要成绩，这两个必须要有！”杨东升在纸上打了两个勾，“浸没式光刻技术、离子蚀刻机就不要给他们看了！”

这是目前公司进展最快，也是未来几年最有可能投入使用的两项技术，一旦投入使用可以给公司的半导体产业带来跨越式发展，正因为此，必须严格保密。

“是不是少了点？”杨东升对面是一个四十岁上下，戴金丝眼镜的男人。

这人就是东升半导体经理，也是公司新任的黄副总。

杨东升想了想道，“把光刻机的研究进度给他们看看！”

半导体产业四大核心设备——光刻机、离子注入机、刻蚀机、薄膜沉积机，这其中光刻机是最经常被人提及的，原因很简单，因为光刻机是最难的。

杨东升也是正式涉足光刻机领域后，才知道这一块有多难。

如果是追着外国人的屁股研究的话，他们永远别想赶上别人，而且永远也别想盈利，他们无论做出何种等级的设备，西方国家马上就会解除对同等设备的禁运，一点市场也别想拿到。

得益于杨东升的先知先觉，东升半导体决定直接上马极紫外线光刻相关技术。

杨东升敢这么做，是因为光刻机不是必须做出第一代设备，才能做第二代设备。

光刻机三大核心部件——光源、镜头、工作台。

其中的关键技术光源，深紫外线使用的是准分子激光，跟下一代极紫外线光源关联很少！

而且准分子激光技术应用很广泛，此项技术不止美国一家掌握，想绕过美国相对简单，相比之下极紫外线光源技术就比较妖孽了。

后世阿斯麦的极紫外线光刻机，使用的光源是采用激光持续轰击锡滴产生的。

由于锡滴发光效率很低，极紫外线又只占所有光线的百分之几，因此必须使用足够强的激光轰击锡滴，才能发出足够的光——至少得是3万瓦以上，而且还得持续不停的轰击。